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据日本冲绳科学工夫大学院大学（OIST）官网最新敷陈，该校蓄意了一种极紫外（EUV）光刻工夫，卓绝了半导体制造业的表率边界。基于此蓄意的光刻缔造可遴荐更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而缩短资本并大幅升迁机器的可靠性和使用寿命。 在传统光学系统中，举例摄影机、千里镜和传统的紫外线光刻工夫，光圈和透镜等光学元件以轴对称神气摆设在一条直线上。这种轨范并不适用于EUV射线，因为它们的波长极短，大广泛会被材料给与。因此，EUV光使用眉月形镜子携带。但这又会导致后光偏离中心轴，